Россия будет производить полупроводники 7 нм Ученые Института прикладной физики РАН активно ведут разработку российской литографической установки по производству микрочипов согласно передовым технологическим нормам. Уже готов первый прототип подобной установки, на котором были получены 7 нм тестовые образцы.
К слову, сейчас в России массово могут выпускать полупроводники в лучшем случае по 65 нм техпроцессу, но в основном в производстве находятся 90 нм изделия. Однако говорить о каком-то серьезном прорыве в этой области не стоит — полноценное промышленное оборудование по выпуску чипов по 7 нм и более тонким техпроцессам будет выполнено в три этапа, на которые уйдет около 6 лет.
Планируется, что к 2024 году ученые должны представить так называемую „альфа-машину» — установка будет представлена в виде рабочего оборудования с возможностью выполнения всего цикла производственных операций и полной реализацией всех необходимых систем.
К 2026 году должна выйти уже „бета-машина», в которой все системы и компоненты будут доработаны, улучшены и максимально автоматизированы, так как сложность оборудования значительно возрастет. Данную установку необходимо будет задействовать на крупных производствах и в реальных техпроцессах, что позволит полностью отладить выпуск микрочипов на данном оборудовании.
На третьем, заключительном, этапе разработки, рассчитанном на период 2026-2028 годы, отечественное литографическое оборудование получит более мощный источник излучения, доработанные системы позиционирования и подачи. Установка станет функционировать быстрее и намного точнее.
Источник: https://www.techcult.ru/ | 
